西班牙高等科學(xué)研究理事會(huì)巴塞羅那材料科學(xué)研究所Teresa Puig和Xavier Obradors團(tuán)隊(duì)利用MicroFab噴墨打?。↖JP)工藝,研究了墨水設(shè)計(jì)、沉積過(guò)程和熱解過(guò)程,一次沉積制備了超導(dǎo)YBa2Cu3O7厚膜(~1.1μm)。IJP工藝被證明可以有效地將含BaZrO3納米顆粒的膠體油墨制備成納米復(fù)合膜,均勻的熱解厚膜可轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂懈吲R界電流的外延厚膜,結(jié)果顯示出增強(qiáng)的渦旋釘扎,從而在高磁場(chǎng)下保持高臨界電流。
介紹
在許多功能材料中,為了使性能更加優(yōu)化,提高膜厚度是一個(gè)關(guān)鍵目標(biāo),但對(duì)于傳統(tǒng)的沉積方式而言,同時(shí)實(shí)現(xiàn)大面積和低成本的功能薄膜是一個(gè)具有挑戰(zhàn)性的過(guò)程。大多數(shù)電力高溫超導(dǎo)(HTS)應(yīng)用需要更厚的薄膜,至少在1μm的范圍內(nèi)。化學(xué)溶液沉積(CSD)方法制備YBCO薄膜的方法是通過(guò)多次沉積和熱解循環(huán)進(jìn)行厚度增加,但此工藝繁瑣,而且會(huì)導(dǎo)致界面相分離,影響薄膜的質(zhì)量。因此,尋找一種能夠在單次CSD中增加膜厚的方法具有重要意義。
噴墨打?。↖JP)是一種具有*高潛力的沉積方法,可以滿足大規(guī)模的要求,也可以滿足圖案化薄膜以及組合和高通量實(shí)驗(yàn)方法的需求。巴塞羅那材料研究所的研究團(tuán)隊(duì)使用MicroFab噴墨打印技術(shù)(MJ-AB-01-60)進(jìn)行按需噴墨(DOD)沉積,通過(guò)優(yōu)化沉積條件和設(shè)計(jì)金屬有機(jī)低氟墨水,實(shí)現(xiàn)了避免液體運(yùn)動(dòng)的策略;同時(shí),在光固化清漆的幫助下,通過(guò)紫外光照射來(lái)維持液體的固定;此外,通過(guò)優(yōu)化熱解過(guò)程,實(shí)現(xiàn)了**好的膜厚和成分均勻性;通過(guò)單次沉積制備的最終薄膜厚度超過(guò)了1μm。如圖1所示。
▲ 圖3 通過(guò)FIB獲得的YBa2Cu3O7熱解膜的截面SEM圖像。預(yù)期最終膜厚為1 μm。襯底為LaAlO3單晶(a)用油墨2制備的膜,在350℃下熱解,膜厚2.3μm;(b)用油墨4+V6.6%V/V制備的膜,在500℃下熱解,膜厚1.6μm。注意,第二層膜的孔隙率降低了。 | ▲ 圖4 (a,b)熱解后的IJP YBa2Cu3O7膜(10×10mm ) 的OM圖像,以及生長(zhǎng)后YBa2Cu3O7膜蝕刻部分的相應(yīng)輪廓掃描圖。圖像(a)對(duì)應(yīng)最終膜厚在1.1μm以上的單次沉積。圖(b)對(duì)應(yīng)第二次沉積后的膜,生長(zhǎng)后的最終膜厚在1.6μm以上。 |
結(jié)論
研究發(fā)現(xiàn)了使用噴墨打?。↖JP)方法單次沉積制備微米厚的YBCO薄膜的潛力,通過(guò)優(yōu)化沉積和熱解過(guò)程,以及選擇適當(dāng)?shù)哪M合,可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的YBCO薄膜和納米復(fù)合薄膜的制備。IJP在優(yōu)化后,可以作為一種**有吸引力的工具來(lái)制備高性能功能厚膜。
參考文獻(xiàn):
[1] Bohores V,Flavio P,Cornelia P, et al. High Performance of Superconducting YBa2Cu3O7 Thick Films Prepared by Single-Deposition Inkjet Printing[J]. ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS,2021,3(9).