噴墨打印高效制備準(zhǔn)二維鈣鈦礦薄膜

2022-12-02 13:14 睿度光電RUIDU
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華南理工大學(xué)發(fā)光材料與器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室彭俊彪教授,通過配有30μm噴頭的MicroFab高精度納米材料沉積噴墨打印系統(tǒng)Jetlab Ⅱ,打印綠色鈣鈦礦油墨以制備厚度為1.5μm,像素密度為120像素/英寸的高電致發(fā)光效率矩陣綠色準(zhǔn)2D鈣鈦礦LED(PeLED),顯示出55%的PL效率和13.9%的峰值EQE,是迄今為止最有效的矩陣綠色準(zhǔn)2D PeLED,噴墨打印也由于其非接觸、無掩模、材料有效和大面積生產(chǎn)的特點(diǎn),成為全彩顯示應(yīng)用中最有前途的技術(shù)。




介紹

金屬鹵化物鈣鈦礦由于其優(yōu)異的光電性能,如高缺陷容限、高色純度、可調(diào)帶隙等,成為溶液處理發(fā)光二極管(LED)的前景材料受到了廣泛關(guān)注。噴墨打印是全彩顯示應(yīng)用中最有前途的技術(shù),但墨滴的流變性能和溶劑蒸發(fā)過程會嚴(yán)重影響鈣鈦礦的表面形貌和結(jié)晶過程,進(jìn)而影響基于鈣鈦礦的器件的EL性能,所以通過噴墨打印技術(shù)實(shí)現(xiàn)的高質(zhì)量像素化矩陣PeLED的電致發(fā)光(EL)器件性能低于自旋涂層器件。

噴墨打印技術(shù)通過調(diào)節(jié)油墨配方、基材表面性質(zhì)、噴墨處理和液滴干燥條件等,可以制造高質(zhì)量像素化的基質(zhì)鈣鈦礦薄膜并且有利于控制薄膜結(jié)構(gòu),彭俊彪教授團(tuán)隊(duì)提出了一種策略來控制溴化鍶(SrBr2)中鍶的二價金屬陽離子的相分布以制備準(zhǔn)2D鈣鈦礦膜,可以通過適當(dāng)增加鈣鈦礦的形成能來控制準(zhǔn)2D鈣鈦礦的生長。

圖片

圖1
使用配置有30μm噴頭MicroFab高精度納米材料沉積噴墨打印系統(tǒng)JetlabⅡ,將綠色鈣鈦礦油墨進(jìn)行打印,像素尺寸寬50μm,長190μm,厚度為1.5μm。在3.5V、4.5V和5.V的驅(qū)動電壓下的鈣鈦礦膜像素的EL圖像(如圖1所示)。為了進(jìn)一步證明噴墨打印技術(shù)的魯棒性和可擴(kuò)展性,制備了面積為4.0×2.5 cm2的相對大面積薄膜(如圖2所示)?;钚悦娣e為10.0cm2的PeLED的峰值EQE達(dá)到9.3%,是迄今為止通過噴墨打印技術(shù)最有效的大面積PeLED,且彎曲200次循環(huán)后,EQE降至初始EQE的68.6%,證明了通過噴墨打印定義的像素矩陣PeLED在柔性器件的應(yīng)用中具有巨大潛力。
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圖2
基于通過原位噴墨打印制備的多類型鈣鈦礦膜,采用玻璃/ITO/Poly-TPD/PFN-Br/鈣鈦礦/TPBi/LiF/Al的統(tǒng)一器件結(jié)構(gòu),構(gòu)建了具有120 PPI分辨率的像素化矩陣綠色PeLED。摻雜SrBr2的PeLED達(dá)到了15194cd m?2的**亮度和13.9%峰值EQE。在3.5–5V的驅(qū)動電壓下,在整個像素區(qū)域上觀察到均勻的EL發(fā)射,表明鈣鈦礦膜的厚度均勻,摻入SrBr2的器件具有681s的延長壽命。
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圖3

結(jié)論

SrBr2可以在DMSO中被有效地解離成Sr2+,并通過它們之間的強(qiáng)靜電相互作用優(yōu)先吸附在[PbBr6]4?周圍,增加了鈣鈦礦的生成能,可以使準(zhǔn)二維鈣鈦礦生長緩慢且均勻。以此制備的綠色鈣鈦礦油墨使用高精度噴墨噴墨打印機(jī)實(shí)現(xiàn)了像素密度為120 PPI的綠色矩陣PeLED,亮度為15194cd m?2,EQE值為13.9%,實(shí)現(xiàn)了峰值EQE為9.3%的大面積(10cm2)PeLED和峰值EQE達(dá)8.6%的柔性PeLED。因此,使用二價金屬離子策略來操縱相分布可以提供一種噴墨打印技術(shù)兼容性良好的油墨,噴墨打印技術(shù)制造的PeLED顯示器將得以廣泛應(yīng)用。


參考文獻(xiàn):

[1] Wang Junjie et al. Efficient emission of quasi-two-dimensional perovskite films cast by inkjet printing for pixel-defined matrix light-emitting diodes[J]. Materials Futures, 2022, 1(4)

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